চীনে হাইড্রোফ্লুরিক অ্যাসিড পরিষ্কারের জন্য প্রথম ভর উত্পাদন সরঞ্জামগুলি সফলভাবে প্যানেল কারখানায় স্থানান্তরিত হয়েছিল

হাইড্রোফ্লুরিক অ্যাসিড পরিষ্কার প্রদর্শন প্রক্রিয়াটির একটি মূল লিঙ্ক। এর পরিষ্কারের প্রভাবটি সরাসরি ডিভাইস কাঠামোর চূড়ান্ত কর্মক্ষমতা, দক্ষতা এবং স্থায়িত্বকে প্রভাবিত করে এবং এটি চূড়ান্ত পণ্যের ফলন হারের সাথে সম্পর্কিত। হাইড্রোফ্লুরিক অ্যাসিড পরিষ্কার করা কেবল সক্রিয় স্তরটির পৃষ্ঠের উপর অমেধ্যগুলি সরিয়ে দেয় না তবে পৃষ্ঠটিও প্যাসিভ করে, যার ফলে ইন্টারফেস অমেধ্যগুলির শোষণ ক্ষমতা হ্রাস করে। পৃষ্ঠ পরিষ্কার -পরিচ্ছন্নতার জন্য প্রয়োজনীয়তাগুলি খুব কঠোর এবং তাত্ত্বিকভাবে কোনও কণা, ধাতব আয়ন বা জৈব আঠালোগুলির উপস্থিতি অনুমতি দেয় না। সংযুক্ত, জলীয় বাষ্প এবং অক্সাইড স্তরগুলি পোস্ট-প্রসেসিং প্রক্রিয়াটির প্রক্রিয়া নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করতে পৃষ্ঠের উপর পারমাণবিক স্তরের সমতলতা প্রয়োজন।